俄罗斯宣布,荷兰ASML始料未及,外媒全

自从美西方国家通过三方协议限制半导体设备出货以来，全球芯片行业一直处于不稳定的状态。作为全球分工产业的关键环节，芯片对现代科技的发展至关重要。然而，受制于外部环境的变化，包括三星、SK海力士、台积电和ASML等半导体巨头企业的出货受到了限制。甚至台积电的创始人张忠谋也表示，芯片全球化已经死亡。面对芯片获取途径的不确定性，各国都倾向于自主研发和制造芯片。

近年来，中国取得了许多突破性的进展，无论是在产能还是在先进制程方面都有了不小的进步。除了中国，欧盟、日本、印度和韩国等国家也制定了相应的芯片制造技术发展规划和先进制程建厂计划。而俄罗斯在光刻机领域也取得了许多技术突破。

最近，俄罗斯正式宣布开始生产光刻机，实现了许多人意料之外的突破。据俄罗斯圣彼得堡理工大学透露，该校的研究院研发出了一种“国产光刻复合体”。虽然俄罗斯的光刻设备与传统设备存在一些差异，但它可以用于生产无掩膜芯片，极大地缓解了俄罗斯在芯片产业中的设备获取困境。尽管与现有的光刻机相比，俄罗斯的技术还不够成熟，并且很难在先进制程领域大规模应用，但这是一项突破性的技术进步。据悉，俄罗斯工业和贸易部副部长宣布，俄罗斯将从年开始生产纳米的光刻机，并于年推出用于生产纳米制程芯片的光刻机。

从这一消息不难看出，在美西方国家封锁半导体设备出货的情况下，俄罗斯选择了自主研发并取得了不错的成果。尽管俄罗斯的光刻机技术水平很难追赶如今芯片产业的先进制程，其生产的芯片也难以在消费电子等领域使用，但它可以满足俄罗斯在军工领域对芯片的需求，以及微波炉、冰箱等家用电器领域的芯片需求。

外媒普遍认为，俄罗斯的全面突围已经开始了。此次俄罗斯自主研发的光刻机消息传出后，ASML可能会感到有些难受。尽管受到三方协议的限制，ASML无法将半导体设备出售给俄罗斯市场，但俄罗斯的自主研发意味着ASML将彻底失去俄罗斯市场。此外，ASML在国际市场上的地位也将受到影响，其在光刻机领域的半垄断地位将进一步被打破。

实际上，不仅中国，包括许多其他国家在内，也开始在半导体领域实现技术突围。以中国为例，上海微电子计划在今年年底或明年年初开始出售28纳米光刻机。此外，中国还计划建立EUV光刻机工厂，并已制造出长春光机所制造的EUV光刻机样机，该技术在其他领域也取得了突破。从目前情况来看，中国已经掌握了大量EUV光刻机制造的核心技术。日本的尼康和佳能在光刻机方面也取得了一定的突破，其自主研发的NIL光刻机已经可以用于生产5纳米芯片，如果加以改良，有望生产出2纳米芯片。这也是对三方协议的一种突破。

全球市场正加速构建去美国化的产业链，努力摆脱对美国技术的依赖。这种趋势的出现实际上是由于各国担心受到美国技术的影响，导致市场环境发生突然变化等原因。由此可见，全球芯片产业链之间的信任正在逐渐消失，各个半导体企业都担心自己可能成为下一个被限制出货的对象，因此都在努力摆脱对美国技术的依赖。

毫无疑问，全面突围已经开始。ASML的光刻机技术领先地位正在逐渐退却，对ASML而言，面临着严重的危机。外国媒体表示，中俄两国都在加速半导体领域的布局，全面突围已经开始。从这一趋势来看，全球芯片产业链的格局可能会发生重大变化，技术实力将成为决定竞争优势的关键因素。

转载请注明：http://www.abuoumao.com/hyfw/7449.html