半导体清洗设备行业发展概况和趋势竞争格
半导体清洗设备行业发展概况和趋势、竞争格局、主要玩家市场容量
1、半导体清洗设备行业发展概况和趋势
半导体制造过程中不可避免会产生一些颗粒、有机物、自然氧化层、金属杂质等污染物，清洗机是指对晶圆表面进行无损伤清洗以去除杂质，获得所需洁净表面，为下一步工艺准备良好条件的工艺设备。清洗机广泛运用于集成电路制造中的成膜前/成膜后清洗、等离子刻蚀后清洗、离子注入后清洗、化学机械抛光后清洗和金属沉积后清洗等各个环节，清洗技术是影响芯片良率的重要因素之一。随着半导体制造工艺技术的不断提升，芯片尺寸不断缩小，对杂质敏感度提升，清洗步骤也在不断增加，90nm的芯片清洗工艺约90道，20nm的清洗工艺则达到了道，目前清洗步骤占整个半导体工艺所有步骤约1/3，几乎所有制作过程前后都需要清洗，为清洗设备带来了广阔的增长空间。
根据清洗介质的不同，半导体清洗技术可以分为湿法清洗和干法清洗两种。目前湿法清洗为主流的清洗技术，占总清洗步骤的90%以上。湿法清洗是根据不同的工艺需求，主要是通过去离子水、清洗剂等对晶圆表面进行无损伤清洗，以去除晶圆制造过程中的杂质。干法清洗是指不使用化学溶剂，采用气态的氢氟酸刻蚀不规则分布的有结构的晶圆二氧化硅层，虽然具有对不同薄膜有高选择比的优点，但可清洗污染物比较单一，目前主要在28nm及以下技术节点的逻辑产品和存储产品有应用。根据清洗方法的不同，湿法清洗包括溶液浸泡法、机械刷洗法、二流体清洗、超声波清洗、兆声波清洗、批式旋转喷淋法六种方法，干法清洗包括等离子清洗、气相清洗和束流清洗三种方法。
目前主流的湿法清洗设备主要包括单片清洗设备、槽式清洗设备、组合式清洗设备和批式旋转喷淋清洗设备等，其中单片清洗设备市场份额占比最高。湿法清洗工艺路线下主流的清洗设备存在先进程度的区分，主要体现在可清洗颗粒大小、金属污染、腐蚀均一性以及干燥技术等标准。
制图：普华有策
2、半导体清洗设备行业竞争格局
全球前五大厂分别是应用材料、阿斯麦、东京电子、泛林科技和科天半导体，来自美国、日本和荷兰。凭借完整的产业链和丰富的技术专利积累，美日欧等发达国家在半导体领域长期保持了全面领先。
半导体清洗设备市场集中度非常高，海外企业占据主导地位。全球半导体清洗设备主要被日本DNS（迪恩士）、东京电子、泛林科技和SEMES（韩国细美事）等企业主导，上述企业清洗设备合计占比超过全球市场90%，产业集中度较高。
得益于产业转移与国家政策支持，中国大陆半导体设备行业全方位成长，国产半导体设备厂商通过自主研发，在半导体刻蚀、沉积、清洗等方面实现了设备的国产化替代，并进入量产阶段。
随着国内企业核心技术和工艺能力的提升，以及在客户认证方面的不断进展，未来刻蚀、清洗设备有望成为显著受益国内市场需求发展的赛道，成为半导体设备行业国产替代的先锋。中国大陆半导体设备销售额前五大厂商为北方华创、中微公司、盛美上海、长川科技、新益昌，清洗设备厂商主要有盛美上海、北方华创、芯源微、至纯科技和提牛科技等，产业集中度较高。
3、半导体清洗设备行业内主要企业
中国大陆从事半导体清洗设备的企业有盛美上海、北方华创、芯源微、至纯科技和提牛科技。
（1）盛美上海
盛美上海是中国大陆半导体湿法设备龙头企业，产品主要分为半导体清洗设备、半导体电镀设备和先进封装湿法设备三大类，其中半导体清洗设备收入占全部主营业务收入的比例最高，其主要产品为集成电路领域的单片清洗设备，其中包括单片SAPS兆声波清洗设备、单片TEBO兆声波清洗设备、单片背面清洗设备、单片前道刷洗设备、槽式清洗设备、单片槽式组合清洗设备等，产品线较为丰富。
（2）北方华创
北方华创是品类最齐全的国产半导体设备龙头，主营业务包括半导体设备、真空设备和电子元器件等，其半导体业务覆盖了刻蚀、沉积、清洗等主要半导体制造设备，产品体系丰富，在半导体清洗设备领域的主要产品包括单片清洗设备及全自动槽式清洗设备，其12英寸单片清洗机采用单片晶圆旋转湿法清洗技术，此设备具有清洗选择性好、清洗效率高等技术，包括化学药液保护系统、管路防静电系统、兆声波系统等，在保证不损伤产品本身结构的前提下，选择性的清洗残留物。
（3）芯源微
芯源微主要产品包括光刻工序涂胶显影设备(涂胶/显影机、喷胶机)和单片式湿法设备（包括清洗机、去胶机、湿法刻蚀机），产品可用于6英寸及以下单晶圆处理（如LED芯片制造环节）及8/12英寸单晶圆处理。
（4）提牛科技
提牛科技公司主要从事半导体清洗设备和中央供液系统（CDS）的研发、生产、销售和服务，主要产品或服务包括半导体槽式清洗设备、部件清洗设备、中央供液系统以及相关改造服务、工程服务和配件销售。清洗设备覆盖了8英寸、
6英寸、4英寸晶圆的清洗。
（5）至纯科技
至纯科技主营业务主要包括半导体制程设备、工艺支持设备的研发和生产销售，以及由此衍生的高纯工艺系统建设、电子材料、部件清洗及晶圆再生等服务。至纯科技目前超过70%的业务在半导体领域，提供槽式设备及单片机设备覆盖目前国内产线成熟工艺及先进工艺涉及的全部湿法工艺。至纯科技提供的湿法设备可以应用在先进工艺上，主要为存储（DRAM、3DFlash）、先进逻辑产品，还覆盖一些特殊工艺上，例如薄片工艺、化合物半导体、金属剥离制程等。
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目录
第一章半导体清洗设备行业相关概述
第一节半导体清洗设备行业定义及分类
一、行业定义
二、行业特性及在国民经济中的地位及影响
第二节半导体清洗设备行业特点及模式
一、半导体清洗设备行业发展特征
二、半导体清洗设备行业经营模式
第三节半导体清洗设备行业产业链分析
一、产业链结构
二、半导体清洗设备行业主要上游-年供给规模分析
三、半导体清洗设备行业主要上游-年价格分析
四、半导体清洗设备行业主要上游-年发展趋势分析
五、半导体清洗设备行业主要下游-年发展概况分析
六、半导体清洗设备行业主要下游-年发展趋势分析
第二章半导体清洗设备行业全球发展分析
第一节全球半导体清洗设备市场总体情况分析
一、全球半导体清洗设备行业的发展特点
二、全球半导体清洗设备市场结构
三、全球半导体清洗设备行业市场规模分析
四、全球半导体清洗设备行业竞争格局
五、全球半导体清洗设备市场区域分布
第二节全球主要国家（地区）市场分析
一、欧洲
1、欧洲半导体清洗设备行业市场规模
2、欧洲半导体清洗设备市场结构
3、-年欧洲半导体清洗设备行业发展前景预测
二、北美
1、北美半导体清洗设备行业市场规模
2、北美半导体清洗设备市场结构
3、-年北美半导体清洗设备行业发展前景预测
三、日韩
1、日韩半导体清洗设备行业市场规模
2、日韩半导体清洗设备市场结构
3、-年日韩半导体清洗设备行业发展前景预测
四、其他
第三章《国民经济行业分类与代码》中半导体清洗设备所属行业-年规划概述
第一节-年所属行业发展回顾
一、-年所属行业运行情况
二、-年所属行业发展特点
三、-年所属行业发展成就
第二节半导体清洗设备行业所属行业-年规划解读
一、-年规划的总体战略布局
二、-年规划对经济发展的影响
三、-年规划的主要目标
第四章-年行业发展环境分析
第一节-年世界经济发展趋势
第二节-年我国经济面临的形势
第三节-年我国对外经济贸易预测
第四节-年行业技术环境分析
一、行业相关技术
二、行业专利情况
1、中国半导体清洗设备专利申请
2、中国半导体清洗设备专利公开
3、中国半导体清洗设备热门申请人
4、中国半导体清洗设备热门技术
第五节-年行业社会环境分析
第五章普华有策对半导体清洗设备行业总体发展状况
第一节半导体清洗设备行业特性分析
第二节半导体清洗设备产业特征与行业重要性
第三节-年半导体清洗设备行业发展分析
一、-年半导体清洗设备行业发展态势分析
二、-年半导体清洗设备行业发展特点分析
三、-年区域产业布局与产业转移
第四节-年半导体清洗设备行业规模情况分析
一、行业单位规模情况分析
二、行业人员规模状况分析
三、行业资产规模状况分析
四、行业市场规模状况分析
第五节-年半导体清洗设备行业财务能力分析与-年预测
一、行业盈利能力分析与预测
二、行业偿债能力分析与预测
三、行业营运能力分析与预测
四、行业发展能力分析与预测
第六章POLICY对-年我国半导体清洗设备市场供需形势分析
第一节我国半导体清洗设备市场供需分析
一、-年我国半导体清洗设备行业供给情况
二、-年我国半导体清洗设备行业需求情况
1、半导体清洗设备行业需求市场
2、半导体清洗设备行业客户结构
3、半导体清洗设备行业区域需求结构
三、-年我国半导体清洗设备行业供需平衡分析
第二节半导体清洗设备产品市场应用及需求预测
一、半导体清洗设备产品应用市场总体需求分析
1、半导体清洗设备产品应用市场需求特征
2、半导体清洗设备产品应用市场需求总规模
二、-年半导体清洗设备行业领域需求量预测
1、-年半导体清洗设备行业领域需求产品功能预测
2、-年半导体清洗设备行业领域需求产品市场格局预测
第七章我国半导体清洗设备行业运行分析
第一节我国半导体清洗设备行业发展状况分析
一、我国半导体清洗设备行业发展阶段
二、我国半导体清洗设备行业发展总体概况
第二节-年半导体清洗设备行业发展现状
一、-年我国半导体清洗设备行业市场规模
二、-年我国半导体清洗设备行业发展分析
三、-年中国半导体清洗设备企业发展分析
第三节-年半导体清洗设备市场情况分析
一、-年中国半导体清洗设备市场总体概况
二、-年中国半导体清洗设备市场发展分析
第四节我国半导体清洗设备市场价格走势分析
一、半导体清洗设备市场定价机制组成
二、半导体清洗设备市场价格影响因素
三、-年半导体清洗设备价格走势分析
四、-年半导体清洗设备价格走势预测
第八章POLICY对中国半导体清洗设备市场规模分析
第一节-年中国半导体清洗设备市场规模分析
第二节-年我国半导体清洗设备区域结构分析
第三节-年中国半导体清洗设备区域市场规模
一、-年东北地区市场规模分析
二、-年华北地区市场规模分析
三、-年华东地区市场规模分析
四、-年华中地区市场规模分析
五、-年华南地区市场规模分析
六、-年西部地区市场规模分析
第四节-年中国半导体清洗设备区域市场前景预测
一、-年东北地区市场前景预测
二、-年华北地区市场前景预测
三、-年华东地区市场前景预测
四、-年华中地区市场前景预测
五、-年华南地区市场前景预测
六、-年西部地区市场前景预测
第九章普●华●有●策对-年半导体清洗设备行业产业结构调整分析
第一节半导体清洗设备产业结构分析
一、市场细分充分程度分析
二、下游应用领域需求结构占比
三、领先应用领域的结构分析（所有制结构）
第二节产业价值链条的结构分析及产业链条的整体竞争优势分析
一、产业价值链条的构成
二、产业链条的竞争优势与劣势分析
第十章半导体清洗设备行业竞争力优势分析
第一节半导体清洗设备行业竞争力优势分析
一、行业整体竞争力评价
二、行业竞争力评价结果分析
三、竞争优势评价及构建建议
第二节中国半导体清洗设备行业竞争力剖析
第三节半导体清洗设备行业SWOT分析
一、半导体清洗设备行业优势分析
二、半导体清洗设备行业劣势分析
三、半导体清洗设备行业机会分析
四、半导体清洗设备行业威胁分析
第十一章-年半导体清洗设备行业市场竞争策略分析
第一节行业总体市场竞争状况分析
一、半导体清洗设备行业竞争结构分析
1、现有企业间竞争
2、潜在进入者分析
3、替代品威胁分析
4、供应商议价能力
5、客户议价能力
6、竞争结构特点总结
二、半导体清洗设备行业企业间竞争格局分析
1、不同规模企业竞争格局
2、不同所有制企业竞争格局
3、不同区域企业竞争格局
三、半导体清洗设备行业集中度分析
1、市场集中度分析
2、企业集中度分析
3、区域集中度分析
第二节中国半导体清洗设备行业竞争格局综述
一、半导体清洗设备行业竞争概况
二、重点企业市场份额占比分析
三、半导体清洗设备行业主要企业竞争力分析
1、重点企业资产总计对比分析
2、重点企业从业人员对比分析
3、重点企业营业收入对比分析
4、重点企业利润总额对比分析
5、重点企业负债总额对比分析
第三节-年半导体清洗设备行业竞争格局分析
一、国内主要半导体清洗设备企业动向
二、国内半导体清洗设备企业拟在建项目分析
三、我国半导体清洗设备市场集中度分析
第四节半导体清洗设备企业竞争策略分析
一、提高半导体清洗设备企业竞争力的策略
二、影响半导体清洗设备企业核心竞争力的因素及提升途径
第十二章普华有策对行业重点企业发展形势分析
第一节企业五
一、企业概况及半导体清洗设备产品介绍
二、企业核心竞争力分析
三、企业主要利润指标分析
四、-年主要经营数据指标
五、企业发展战略规划
第二节企业二
一、企业概况及半导体清洗设备产品介绍
二、企业核心竞争力分析
三、企业主要利润指标分析
四、-年主要经营数据指标
五、企业发展战略规划
第三节企业三
一、企业概况及半导体清洗设备产品介绍
二、企业核心竞争力分析
三、企业主要利润指标分析
四、-年主要经营数据指标
五、企业发展战略规划
第四节企业四
一、企业概况及半导体清洗设备产品介绍
二、企业核心竞争力分析
三、企业主要利润指标分析
四、-年主要经营数据指标
五、企业发展战略规划
第五节企业五
一、企业概况及半导体清洗设备产品介绍
二、企业核心竞争力分析
三、企业主要利润指标分析
四、-年主要经营数据指标
五、企业发展战略规划
第十三章普●华●有●策对-年半导体清洗设备行业投资前景展望
第一节半导体清洗设备行业-年投资机会分析
一、半导体清洗设备行业典型项目分析
二、可以投资的半导体清洗设备模式
三、-年半导体清洗设备投资机会
第二节-年半导体清洗设备行业发展预测分析
一、产业集中度趋势分析
二、-年行业发展趋势
三、-年半导体清洗设备行业技术开发方向
四、总体行业-年整体规划及预测
第三节-年规划将为半导体清洗设备行业找到新的增长点
第十四章普●华●有●策对-年半导体清洗设备行业发展趋势及投资风险分析
第一节-年半导体清洗设备存在的问题
第二节-年发展预测分析
一、-年半导体清洗设备发展方向分析
二、-年半导体清洗设备行业发展规模预测
三、-年半导体清洗设备行业发展趋势预测
四、-年半导体清洗设备行业发展重点
第三节-年行业进入壁垒分析
一、技术壁垒分析
二、资金壁垒分析
三、政策壁垒分析
四、其他壁垒分析
第四节-年半导体清洗设备行业投资风险分析
一、竞争风险分析
二、原材料风险分析
三、人才风险分析
四、技术风险分析
五、其他风险分析
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